湿度控制的一个主要条件,无尘车间生产一定相对湿度是无尘车间,一个常用的进程中洁净室操作环境控制条件。典型的半导体无尘车间、洁净室控制目标中的相对湿度约30至50%,范围内的答应误差在正负1%的狭窄范围内,如光刻区域或在悠远的紫外线处理(DUV)或更少的在别的当地能够放松+ / - 5%范围内。
这些年,坚持空气处理进程,这些规则的范围,咱们有必要采取的资金和运营成本。可是为何值这么多钱在无尘车间、洁净室控制相对湿度?规则很简单!因为相对湿度有一系列的要素也许会使洁净室全体性能降低,包含:
1、细菌成长;
2、职工感觉舒适房间温度范围;
3、静电;
4、金属腐蚀;
5,水蒸气凝聚;
6、光刻退化;
7、吸水性。
细菌和别的生物污染(霉菌、病毒、霉菌、螨虫)超越60%相对湿度环境中能够活跃品种。有些细菌在相对湿度能够进步30%以上。在相对湿度40%至60%范围内,可使细菌和呼吸道传染的影响降至最低。
相对湿度40% - 60%的范围也温和的人体感觉舒适的范围。湿度过高会使大家感到气闷,低于30%时,会让人感觉干燥,肌肤破损,和呼吸道不适和情绪沮丧。
高湿度实际上减少了静电电荷堆集外表的无尘车间、洁净室──这是一切期望的成果。低湿度符合电荷堆集和成为破坏性的静电放电的一个潜在来源。当相对湿度超越50%时,静电电荷开端敏捷散失,但当相对湿度小于30%,它们能够在地球外表上的绝缘子是不是持续存在了很长一段时间。
之间的35%和40%相对湿度能够用作一个满足的退让,半导体无尘车间、洁净室一般运用额定的控制设备来约束静电荷的堆集。
许多化学反响的速度,包含腐蚀进程,跟着相对湿度的添加,加快。一切暴露在周围的空气无尘车间、洁净室的外表很快就最少一个单分子层的水覆盖着。当外表由薄金属涂层与水反响,高湿度能够使反响速度。走运的是,某些金属,如铝,能够构成一层维护类型与水氧化,并防止进一步氧化反响;但另一种情况是,氧化铜等是不能维护,因而,在高湿度环境中,铜外表更简单受到腐蚀。
在相对湿度较高的环境中,冷凝水构成粒子之间的毛细力和外表构成了衔接键,能够添加颗粒外表上的粘附力和硅质。这种作用,开尔文浓缩,当相对湿度小于50%并不主要,可是,当相对湿度是70%左右,已成为主要的力气在粒子之间的附着力。
到目前为止,最紧迫的半导体无尘车间、洁净室需求适当控制光致抗蚀剂的敏感性。因为光刻胶的性质在相对湿度敏感,它是相对湿度的控制范围的请求最严格的标准。