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单晶硅回收飞秒激光制备单晶硅表面

发布于:2015年04月10日 来源:www.szfuhai.com
[摘要]于单晶硅而言最为重要的应用是改变材料的光学特性,利用飞秒脉冲激光照射单晶硅表面达到一定阈值后在其辐射区域会自发形成微纳结构

单晶硅回收飞秒激光制备单晶硅表面

   硅作为一种非常重要的半导体材料,由于在自然界中含量丰富,提取方便,所以在许多领域都得到了应用,这也在一定程度上促进了人们对它的研究。对于单晶硅而言,由于其易掺杂、耐高温等特殊的物理性质,使得它在硅基太阳能电池和硅基探测器等方面有着尤其重要的应用价值。利用硅材料制成的硅太阳能电池因为可靠性高、寿命长、能承受各种环境变化等优点,已经成为太阳能电池的主要类型

   飞秒激光和纳秒激光作用于单晶硅表面时形成的尖锥状微结构。当超短脉冲激光辐射单晶硅表面时,在辐射区域将会形成一些微米甚至纳米尺寸的类金字塔结构,这些结构呈现凸起状或凹坑状。相对于纳秒激光烧蚀单晶硅表面得到的微结构而言,飞秒激光烧蚀出的微结构分布更加均匀规律、结构间间距小、而且单个结构更加尖锐,这都更符合减反微结构的要求。当光线入射到这种微结构表面时入射光将会在相邻结构的侧壁间来回多次反射,从而形成陷光效应,降低对入射光的反射