[摘要]福建电镀之厚离子镀层低成本制作方案高能量脉冲式等离子磁控溅射技术(HPPMS)是结合「高能量」和「脉冲式」两大特征的新型磁控溅射系统。
福建电镀之厚离子镀层低成本制作方案
高能量脉冲式等离子磁控溅射技术，能越传统的磁控溅射方法，制作出高质量多于3μm的厚离子镀层。由于高能量脉冲方式有利增加离子的密度，不但加强镀层与底材之间的接合力，亦可减低表面粗糙度，在功能性部件上可进一步增强耐磨性能及减少替换次数。
对装饰性强的产品来说，可保持外观及更耐用，因此以高能量脉冲式制作镀层，能有效利用等离子体，从而控制涂层的结构，其大特色是可沉积在光滑致密的微细结构，提升耐腐蚀性及表面光洁度;又或是可沉积在复杂的几何工件之上，达致更均匀的涂层。
高能量脉冲式等离子磁控溅射技术(HPPMS)是结合「高能量」和「脉冲式」两大特征的新型磁控溅射系统。在镀层过程上，电源扮演重要的角色，采用「高能量」和「脉冲式」的放电方式，可于少于2微秒的短时间，发出高达1500V输出电压的强大能量，犹如闪电现象。
高能量脉冲式等离子磁控溅射技术，能越传统的磁控溅射方法，制作出高质量多于3μm的厚离子镀层。由于高能量脉冲方式有利增加离子的密度，不但加强镀层与底材之间的接合力，亦可减低表面粗糙度，在功能性部件上可进一步增强耐磨性能及减少替换次数。
对装饰性强的产品来说，可保持外观及更耐用，因此以高能量脉冲式制作镀层，能有效利用等离子体，从而控制涂层的结构，其大特色是可沉积在光滑致密的微细结构，提升耐腐蚀性及表面光洁度;又或是可沉积在复杂的几何工件之上，达致更均匀的涂层。